2015年3月6日に東京工業大学で行われたFIIS研究会にて研究発表を行いました．
以前にもこの記事猪谷孝太君FIISにて研究発表会@東工大をのせていますが，ここでは詳しい研究内容と，研究会の参加を通して自分が感じたこと，学んだことをまとめています．

発表タイトルは，”依存性グラフを用いた4相2線式非同期回路の高位設計支援システム”です．
近年主流である同期回路において，LSI設計時の遅延のばらつきによるクロックスキューの増大や，
高速クロックによるノイズの増大等のさまざまな問題が発生しています．それを根本から解決するものとして，グローバルクロックを使用しない非同期回路が注目を集めています．しかし，非同期回路の実用化を進める上で必要なCADツールの研究開発等は未だ発展途上の状況です．
本研究では，従来研究の手法に着目し，4相2線式非同期回路の高位合成における資源共有が回路面積や遅延にどのような影響を与えるのかについて考察を行いました．また，それにあたって4相2線式非同期回路の制御回路部を依存性グラフから自動生成するツールの開発も合わせて行いました．

この研究会の参加を通して，学外発表だけでしか経験できないことを多くすることが出来ました．
他大学の先生方から質疑や意見等をいただいたり，他大学の学生さんがどのような研究をされているのか知るのは自分の今後の研究や，学生生活を考える上でもとても貴重な経験でした．
その中でも特に印象に残っているのが，招待講演での内容です．実際にハードウェアを試作されているお話や，自作FPGAをたくさん接続させたなどのお話はとても興味深かったです．また，自分の研究内容に関係する”非同期”についても貴重なお話を聞くことが出来ました．
研究会後の懇親会では，他大学の先生方からとても楽しいお話を聞くことができました．特に電子工作のお話は本当に楽しくて，実際に作りたくなったので，次の日電子工作キットの購入もしました(笑)．
懇親会の場だからこそ聞けた話も多くありました．本当に素晴らしい経験が出来たと思います．

今後，またこのような経験ができるように学外発表に積極的に参加していきたいと思っています．そのためにも研究に熱心に取り組んで行こうと思います．